Please use this identifier to cite or link to this item:
Title: Ηλεκτρικός και οπτικός χαρακτηρισμός χωρητικά συζευγμένων εκκενώσεων ραδιοσυχνότητας
Other Titles: Electrical and optical characterization of RF capacitively coupled plasmas
Authors: Τσιγάρας, Ιωάννης
Keywords: Πλάσμα
Χωρητικά συζευγμένες εκκενώσεις
Ηλεκτρικός χαρακτηρισμός
Οπτικός χαρακτηρισμός
Keywords (translated): Plasma
Capacitively coupled discharges
Electrical characterization
Optical characterization
Abstract: Τις τελευταίες δεκαετίες οι εκκενώσεις αίγλης με τάση διέγερσης ραδιοσυχνότητας χρησιμοποιούνται ευρέως λόγω της εφαρμογής τους στη παρασκευή ημιαγωγών και φωτοβολταϊκών κελιών. Λόγω της πολύπλοκης φύσης των διεργασιών πλάσματος, είναι απαραίτητος ο έλεγχος των ιδιοτήτων τους για τη βελτιστοποίηση της μεταφοράς ισχύος στην εκκένωση καθώς και την επίτευξη σταθερών, αξιόπιστων και αναπαραγώγιμων συνθηκών. Για το λόγο αυτό χρησιμοποιούνται διάφορες μη παρεμβατικές τεχνικές για τη μέτρηση και τον υπολογισμό των χαρακτηριστικών της εκκένωσης. Ο υπολογισμός των μικροσκοπικών χαρακτηριστικών της εκκένωσης παρέχει χρήσιμες πληροφορίες για τους διάφορους μηχανισμούς κατανάλωσης ισχύος και οδηγεί στη βελτιστοποίηση της διεργασίας. Σκοπός της εργασίας αυτής είναι η χρησιμοποίηση ηλεκτρικών και οπτικών διαγνωστικών τεχνικών για τον υπολογισμό των ηλεκτρικών χαρακτηριστικών της εκκένωσης. Στη κατεύθυνση αυτή, τρείς διαφορετικές πειραματικές τεχνικές αναπτύχθηκαν για το χαρακτηρισμό της παρασιτικής εμπέδησης του αντιδραστήρα και το μετέπειτα υπολογισμό των ηλεκτρικών χαρακτηριστικών εκκενώσεων αργού. Διερευνήθηκε επίσης η διάδοση σφάλματος στον υπολογισμό της καταναλισκόμενης ισχύος μέσω ηλεκτρικών μετρήσεων τάσης ρεύματος και της σχετικής τους διαφοράς φάσης καθώς επίσης καθώς και οι παράγοντες από τους οποίους εξαρτάται η μεταφορά ισχύος σε χωρητικά συζευγμένες εκκένωσεις αίγλης. Τέλος, εφαρμόστηκαν ηλεκτρικές μετρήσεις καθώς και Οπτική Φασματοσκοπία Εκπομπής για τον υπολογισμό της θερμοκρασίας ηλεκτρονίων σε εκκενώσεις αργού. Τα πειραματικά αποτελέσματα, υποδεικνύουν πως τόσο το εξωτερικό κύκλωμα όσο και οι συνθήκες της εκκένωσης επηρεάζουν άμεσα την ακρίβεια των μεθόδων καθώς και τη μεταφορά ισχύος στην εκκένωση. Για μεγάλες εμπεδήσεις εκκένωσης, σε χαμηλές πιέσεις, η μεταφορά ισχύος στην εκκένωση είναι μικρή και το σφάλμα στον υπολογισμό της καταναλισκόμενης ισχύος, το οποίο εξαρτάται από το μετρούμενο VSWR, είναι μεγάλο. Η ακρίβεια των ηλεκτρικών μετρήσεων καθώς και η μεταφορά ισχύος στην εκκένωση αυξάνονται σε υψηλότερες πιέσεις με τη μείωση της εμπέδησης της εκκένωσης. Τέλος, όταν χρειάζεται μόνο ένας ποιοτικός υπολογισμός της μεταβολής της θερμοκρασίας των ηλεκτρονίων, η προτεινόμενη μέθοδος του λόγου των δυο φασματικών γραμμών μπορεί να χρησιμοποιηθεί με ακρίβεια.
Abstract (translated): Low pressure Capacitively Coupled Plasma discharges have been widely used since the 1970s due to their application in semiconductors and thin film solar cells. Due to their complex nature, plasma processes should be monitored for the optimization of power transfer from the generator to the plasma and the achievement of stable, reliable and reproducible discharge conditions. As a result, several in situ non – intrusive plasma diagnostic techniques should be implemented with the use of mathematical models for the estimation of the characteristics of interest. The determination of plasma microscopic characteristics can provide useful knowledge about the mechanisms by which RF power is dissipated and can lead to the optimization of the process. The aim of the present thesis is the implementation of different electrical and optical diagnostic techniques for the calculation of the microscopic characteristics of the discharge. In that direction, three different experimental techniques were developed and applied for the characterization of the reactors parasitic impedance and the subsequent calculation of the electrical characteristics of an argon discharge. An investigation was also performed about the error propagation through the electrical measurements in classical plasma conditions and the factors affecting the power coupling efficiency of capacitively coupled discharges. Finally, electrical measurements together with Optical Emission Spectroscopy were implemented for the calculation of the electron temperature of argon discharges. The experimental results indicate that both the external RF circuit and the discharge conditions play a crucial role as they affect the accuracy of the implemented methods and the power coupling to the discharge. For lower chamber pressures in which the discharge impedance is high the power coupling efficiency to the discharge is low and the errors in the calculation of the dissipated power, which depend on the measured VSWR, are high. The accuracy of the electrical calculations and the power coupling efficiency is increased in higher pressures due to a decrease of the discharge impedance. Finally, when only a qualitative calculation of the electron temperature is needed mainly for monitoring of the process, the line ratio method, implemented in this thesis can be used efficiently.
Appears in Collections:Τμήμα Χημικών Μηχανικών (ΔΔ)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
PhD Thesis Tsigaras.pdf3.67 MBAdobe PDFView/Open

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.